| Type | Plat clair de quartz | 
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique | 
| Épaisseur | 0.5-100mm | 
| Forme | Place | 
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe | 
| Type | Plat clair de quartz | 
|---|---|
| application | Semi-conducteur, optique | 
| Épaisseur | 0.5-100mm | 
| Forme | Place | 
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe | 
| Matériel | SIO2>99.99% | 
|---|---|
| Densité | 2,2 (g/cm3) | 
| Transmittance légère | >92% | 
| Dureté | Morse 6,5 | 
| La température fonctionnante | 1100℃ | 
| Matériel | 99,99% | 
|---|---|
| Transmittance légère | 92% | 
| Densité | 2.2g/cm3 | 
| Temparature fonctionnant | 1100℃ | 
| Dureté | Morse 6,5 |