| Nom | Tube en verre de quartz |
|---|---|
| Application | Sources, semi-conducteur |
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Fonctionnalité | Bonne isolation électrique |
| transmittance légère | > 92% |
| Mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100 ℃ |
| Tolérance à l'acide | 30 fois que la céramique |
| Nom du produit | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100 ℃ |
| Tolérance à l'acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0,5-100 mm |
| Forme | carré |
| Service de traitement | Coup de poing, coupe |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 3-100mm |
| Forme | carré |
| Service de traitement | Coup de poing, coupe |
| keyword | Science Lab Glassware |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Material | fused silicon |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Acid tolerance | 30 times than ceramics |
| Nom | Tube en verre de quartz |
|---|---|
| Application | Sources , Semi-conducteur |
| Matériel | SIO2>99,99 % |
| Caractéristique | Bonne isolation électrique |
| Transmission de la lumière | >92 % |
| Nom | Barque en verre au quartz |
|---|---|
| application | Sources, semi-conducteur |
| matériel | SiO2> 99,99% |
| fonctionnalité | Bonne isolation électrique |
| Transmission de la lumière | > 92% |
| Nom | Barque en verre au quartz |
|---|---|
| Application | Sources, semi-conducteur |
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Fonctionnalité | Bonne isolation électrique |
| transmittance légère | > 92% |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |