Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
Matériel | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Transmittance légère | >92% |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Mose 6,5 |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |