| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Nom de produit | Usinage en verre de précision |
|---|---|
| Matériel | SiO2 |
| Hardness | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Nom de produit | Usinage en verre de précision |
|---|---|
| Matériel | Sio2 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1200℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| dureté | Mose 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.999% |
|---|---|
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace plate |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Urne de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
| Nom | Tube en verre de quartz |
|---|---|
| Mot-clé | Tube de quartz |
| Matériel | SIO2>99,99 % |
| OD | 3-300mm |
| Transmission de la lumière | >92 % |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
