Nom de produit | Glace plate |
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Matériel | 99,99% |
Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Urne de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
Nom | Tube en verre de quartz |
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Mot-clé | Tube de quartz |
Matériel | SIO2>99,99 % |
OD | 3-300mm |
Transmission de la lumière | >92 % |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de fonctionnement | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Place/rond |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Matériel | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Transmittance légère | >92% |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Mose 6,5 |
Matériel | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Transmittance légère | >92% |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Mose 6,5 |