Type | Plat clair de quartz |
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application | Lumière UV, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
Matériel | silicium fondu |
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La température fonctionnante | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | morse 6,5 |
Densité | 2.2g/cm3 |
Nom de produit | Cuvette de quartz |
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Matériel | silicium fondu |
la température fonctionnante | 1100℃ |
Tolérance aux acides | 30 fois plus que la céramique |
Dureté | Morse 6.5 |
Le type | porteuse de plaquettes de quartz |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Matériel | SiO2 |
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densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Transmittance UV | 80% |
Matériel | SiO2 |
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densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Transmittance UV | 80% |
Matériel | SiO2 |
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densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Transmittance UV | 80% |
Nom de produit | Tube de quartz |
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Matériel | Sio2 |
dureté | Morse 6,6 |
Point de fonte | 1730℃ |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Matériel | SiO2 |
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Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1200℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Force de Dieletric | 250~400Kv/cm |