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Plaque de verre de quartz de haute pureté personnalisée 99,99% SiO2 résistante à la chaleur 1150℃ avec une transmission lumineuse élevée >92% pour le laboratoire et les semi-conducteurs
Disques ronds en verre de quartz personnalisés avec une pureté de SiO2 de 99,99 %, une transmission de la lumière > 92 % et une température de fonctionnement de 1 150 ℃. Disponible en diamètre 1-800 mm, épaisseur 0,2-100 mm. Résistant à la chaleur, à la corrosion et personnalisable pour les applications de semi-conducteurs, de laboratoire et industrielles.
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Plaque de silice fondue de haute pureté 99,99 % avec un point de fusion de 1732 °C et une température de travail de 1100 °C pour fenêtre en quartz optique
Plaques de silice fondue de haute pureté avec 99,99 % de SiO2, > 92 % de transmission de la lumière, point de fusion de 1 732 ℃ et température de fonctionnement de 1 150 ℃. Tailles personnalisées (diamètre 1-800 mm, épaisseur 0,2-100 mm) avec options de poinçonnage/découpe. Normes JGS, résistantes à la corrosion et durables à haute température pour les applications semi-conductrices, laser et optiques.
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Plaque de verre de quartz de haute pureté personnalisée 99,99% SiO2 avec transmission UV élevée >92% et résistance aux hautes températures 1150℃ pour fenêtres optiques
Feuilles de verre de quartz personnalisées avec une pureté de SiO2 de 99,99 %, une transmission de la lumière > 92 % et une température de fonctionnement de 1 150 ℃. Disponible en épaisseur de 0,5 à 100 mm avec une personnalisation complète comprenant la découpe, le pliage et le soudage pour les applications optiques.
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Plaque de verre au quartz UV transparente, feuille de silice fondue à 99,99% de SiO2 et taille personnalisée
Feuille de verre de quartz de silice fondue de haute pureté avec 99,99 % de SiO2, > 92 % de transmission de la lumière, transparent aux UV, épaisseur 0,5-100 mm, température de fonctionnement 1150 ℃. Tailles personnalisées, normes JGS, résistant à la corrosion, résistant aux hautes températures, forte isolation électrique.
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Plaque de quartz perforée de précision JGS1 JGS2 JGS3 Plaque de quartz perforée pour semi-conducteurs
Plaques de quartz percées avec précision dans les qualités JGS1/JGS2/JGS3 pour les applications semi-conductrices. Comprend une pureté SiO₂ de 99,99 %, une température de fonctionnement de 1 100 ℃ et des services de poinçonnage/découpe personnalisés. Disponible en silice fondue transparente avec des échantillons gratuits et un faible MOQ.
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wafer de verre de quartz de silice fondue transparente JGS1 JGS2 JGS3 résistant aux hautes températures pour la fabrication de semi-conducteurs
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
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Plaque de verre de quartz ultra-mince (0,5 mm à 3 mm) pour la fabrication de semi-conducteurs
Semiconductor Manufacturing Ultra Thin (0.5mm–3mm) Quartz Glass Plate Product Overview High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan ...
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Vente en gros de tôles de polissage de quartz de forme ronde sans impuretés
Feuille de polissage de quartz de forme ronde sans impuretés personnalisée en gros avec une teneur en SiO₂ de 99,99 %, une densité de 2,2 g/cm³, une dureté de 6,6, une température de fonctionnement de 1 100 ℃ et un point de fusion de 1732 ℃. Prend en charge le traitement de poinçonnage/découpe et les échantillons gratuits pour les applications de semi-conducteurs.
