High Quality Optical Fused Silica Punching Quartz Glass Plate for Laboratory Optical Equipment
Détails du produit
| Point de fusion: | 1732℃ | Matériel: | SiO2 |
|---|---|---|---|
| Nom de PProduct: | Tube en verre Qruartz | teneur en SiO2: | 99,99% |
| Échantillon: | Soutenir la production d’échantillons gratuits | DO: | 10 à 10000 mm |
| Application: | Semi-conducteur | Densité: | 2,2 g / cm3 |
| Service de traitement: | Coupe par perçage | Température de travail: | 1100℃ |
| Mettre en évidence |
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Description du produit
Points forts du produit
Plaques de quartz de silice fondue à 99,99 % de haute pureté avec un point de fusion de 1 732 ℃ et une température de fonctionnement de 1 100 ℃. Idéal pour les équipements semi-conducteurs et optiques. Comprend un poinçonnage, une découpe et des échantillons gratuits personnalisés. Durable, efficace et adapté aux spécifications exactes.
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Thin Quartz Glass Plate Dimensional Stable 1-1000mm Processing Range Product description: Fused clear silica quartz glass plate is made of high purity quartz sand with excellent thermal shock stability and high transmittance. It is widely used in electric light/ laser/ lenses/optical instrument/high ...
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Product description: 1.SiO2> 99.99% ,tubing fused quartz 2.Operating Temperature: 1250℃ 3.Excellent visual and chemical performance . 4.Without surface coating andinfectant . 5.Health care and environmental protection. 6.Any specification can be made. 7.Quartz glass is acidic materials, except hydro ...
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