Le type | Plaque de quartz transparent |
---|---|
Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
---|---|
Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
---|---|
Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Place/rond |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
---|---|
Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Place/rond |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Nom de produit | Plat de quartz fondu |
---|---|
Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Hardness | Morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Type | Plat clair de quartz |
---|---|
application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Le type | Plaque de quartz transparent |
---|---|
Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Place/rond |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Nom | verre de quartz |
---|---|
Matériel | SIO2>99.999% |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Nom de produit | glace de quartz |
---|---|
Matériel | 99,99% |
Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
---|---|
Matériel | SIO2 |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |