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Qualité Plaque de verre de quartz de haute pureté personnalisée 99,99% SiO2 résistante à la chaleur 1150℃ avec une transmission lumineuse élevée >92% pour le laboratoire et les semi-conducteurs Usine

Plaque de verre de quartz de haute pureté personnalisée 99,99% SiO2 résistante à la chaleur 1150℃ avec une transmission lumineuse élevée >92% pour le laboratoire et les semi-conducteurs

Disques ronds en verre de quartz personnalisés avec une pureté de SiO2 de 99,99 %, une transmission de la lumière > 92 % et une température de fonctionnement de 1 150 ℃. Disponible en diamètre 1-800 mm, épaisseur 0,2-100 mm. Résistant à la chaleur, à la corrosion et personnalisable pour les applications de semi-conducteurs, de laboratoire et industrielles.

Qualité Tube en quartz résistant aux hautes températures de haute pureté à 99,99 %, tube en silice fondue de taille personnalisée pour four de laboratoire Usine

Tube en quartz résistant aux hautes températures de haute pureté à 99,99 %, tube en silice fondue de taille personnalisée pour four de laboratoire

Tubes de quartz personnalisés avec une pureté de SiO2 de 99,99 %, une résistance aux températures élevées jusqu'à 1 450 °C, une excellente résistance à la corrosion acide et des certifications CE/RoHS/SGS. Disponible dans des tailles personnalisées avec une transmission et une durabilité élevées.

Qualité Plaque de verre de silice fondue, matériau de quartz de haute pureté, plaquette de quartz à haute température Usine

Plaque de verre de silice fondue, matériau de quartz de haute pureté, plaquette de quartz à haute température

Plaques de verre de quartz de haute pureté (SiO₂> 99,99 %) résistantes à la chaleur avec point de ramollissement de 1 683 °C, température de fonctionnement de 1 100 à 1 200 °C, dureté Morse 6,5 et transmission de la lumière de plus de 92 %. Formes personnalisées, épaisseur 0,3-100 mm, surfaces polies et faible MOQ disponible.

Qualité Plaque de verre de quartz de silice optique fondue perforée CNC de haute précision Usine

Plaque de verre de quartz de silice optique fondue perforée CNC de haute précision

Plaque de verre de quartz de silice fondue optique percée CNC de haute précision avec une teneur en SiO₂ de 99,99 %, un point de fusion de 1732 ℃ et une température de fonctionnement de 1100 ℃. Fabrication sur mesure avec services de poinçonnage/découpe et échantillons gratuits disponibles pour les applications de semi-conducteurs.

Qualité Donghai Source Factory Quartz Glass Tube ISO9001 CE RoHS Certified 99.999% High Purity Fused Silica threaded tube Manufacturer Usine

Donghai Source Factory Quartz Glass Tube ISO9001 CE RoHS Certified 99.999% High Purity Fused Silica threaded tube Manufacturer

Donghai Source Factory Quartz Glass Tube OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product ...

Qualité Résistant à haute température 1200°C Transparent 99,99% Pureté Plaque de verre quartz Plaque de verre de silice fusionnée Usine

Résistant à haute température 1200°C Transparent 99,99% Pureté Plaque de verre quartz Plaque de verre de silice fusionnée

Plaque de quartz résistante aux hautes températures avec une température de fonctionnement de 1 150 ℃, une transmission de la lumière > 92 % et une pureté SiO2 de 99,99 %. Disponible en épaisseur de 0,5 à 100 mm avec des options de fabrication personnalisées pour les applications de semi-conducteurs, de laboratoire et de four.

Qualité Plaque de verre à haute pureté sur mesure 99,99% de quartz résistant aux températures élevées avec une transmission lumineuse élevée pour les semi-conducteurs optiques Usine

Plaque de verre à haute pureté sur mesure 99,99% de quartz résistant aux températures élevées avec une transmission lumineuse élevée pour les semi-conducteurs optiques

Plaque de quartz transparente de haute pureté à 99,99 % personnalisée en usine avec une transmission de la lumière > 92 %, normes JGS1/JGS2, température de fonctionnement jusqu'à 1 150 ℃, disponible en épaisseur de 0,5 à 100 mm. Options de fabrication personnalisées pour les applications semi-conductrices et optiques avec une forte résistance à la corrosion et une isolation électrique.

Qualité Résistant aux températures élevées 1200°C Tube de verre au quartz avec SiO2 > 99,99% Pureté et options de taille personnalisées Usine

Résistant aux températures élevées 1200°C Tube de verre au quartz avec SiO2 > 99,99% Pureté et options de taille personnalisées

High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...