| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Place/rond |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0,5-100 mm |
| Forme | Carré/ronde |
| Service de traitement | Boule, soudage, poinçonnage, polissage |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0,5-100 mm |
| Forme | Carré/ronde |
| Service de traitement | Boule, soudage, poinçonnage, polissage |
| Nom de produit | glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Place/rond |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Nom du produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | Si2> 99,99% |
| Densité | 2.2 g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Matériel | SiO2 |
|---|---|
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1850℃ |
| forme | Place/rond/toute forme |
| Épaisseur | 1mm-50mm |
| Nom | verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Lumière UV, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |