| Nom du produit | Bride de tube de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Nom du produit | Usinage en verre de précision |
|---|---|
| Matériel | SiO2 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Taper | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe |
| Taper | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Façonner | Carré |
| Service de traitement | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe |
| Nom de produit | Bride de tube de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Nom du produit | tige en verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| dureté | morse 6,5 |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
| Type | Clear Quartz Tube |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
