Type | Plaque de quartz clair |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
forme | carré |
Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
Nom du produit | Barre de quartz pressée à chaud |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Transimittance léger | 92% |
dureté | morse 6,5 |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de fonctionnement | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |