Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Nom de produit | Usinage en verre de précision |
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Matériel | SIO2 |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.999% |
Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | morse 6,5 |
Matériel | SIO2>99.999% |
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Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
Type | Plat clair de quartz |
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application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Type | Plat clair de quartz |
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application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Type | Plat clair de quartz |
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application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
Type | Plat clair de quartz |
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application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Taper | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |