| Type | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| forme | carré |
| Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
| Nom du produit | Barre de quartz pressée à chaud |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| dureté | morse 6,5 |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |