| Matériel | silicium fondu |
|---|---|
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Hardness | Morse 6,5 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Nom de produit | verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
| name | Réacteur en verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100°C |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | morse 6,5 |
| matériel | silicium fondu |
|---|---|
| La température fonctionnante | 1250℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | Morse 6,5 |
| application | Essai en laboratoire |
| Nom | Disque en verre de quartz |
|---|---|
| Transmittance légère | >92% |
| densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Nom de produit | glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2 |
| Hardness | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Nom | verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |