Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.999% |
Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | morse 6,5 |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Sio2 | 99,99% |
Temparature fonctionnant | 1200℃ |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
Taper | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Taper | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |