| Matériel | 99,99% |
|---|---|
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| keyword | Science Lab Glassware |
|---|---|
| Name | process glass lab customized quartz instrument |
| Matériel | silicium fondu |
| Working temperature | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| name | Tube de verre de quartz |
|---|---|
| Application du projet | Sources, semi-conducteur |
| Matériel | Si2> 99,99% |
| Caractéristique | Bonne isolation électrique |
| Transmission de la lumière | > 92% |
| Matériel | SiO2 |
|---|---|
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Force de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Density | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99,99 % |
| densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Température de travail | 1150℃ |