| Taper | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Nom de quartz | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Température de travail | 1100℃ |
| Nom | PLAT DE QUARTZ DE XRD |
|---|---|
| Taper | Plat clair de quartz |
| Application | Produit chimique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Forme circulaire |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | Sio2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmission de la lumière | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |