Type | Plat clair de quartz |
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Application | Lumière UV, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Poinçonnage, découpe, polissage |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.999% |
Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | morse 6,5 |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.999% |
Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | morse 6,5 |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmission de la lumière | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmission de la lumière | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmission de la lumière | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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SiO2 | 99,99% |
Temparature fonctionnant | 1200℃ |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmission de la lumière | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |