Étude de cas : Tube de four à silice fondue-Amy
Publié le: June 24, 2026
1. Les antécédents des clients
Un fabricant de semi-conducteurs de puissance de 8 pouces utilise des fours à diffusion verticale à 1050° 1180°C pour l'oxydation et le dopage.résistance à la transmission infrarouge et à la dévitrification.
2- Des problèmes avec les tubes de silice ordinaires.
Les anciens tubes JGS1 polissés à la flamme ont causé de multiples défauts de production:
- Une teneur élevée en OH entraîne une pénétration infrarouge médiocre et un champ de température inégal, ce qui réduit le rendement de la gaufre.
- Les impuretés métalliques élevées provoquent une dévitrification rapide et des fissures fréquentes; les tubes doivent être remplacés tous les 45 jours.
- Les noix mates polissées à la flamme entraînent une mauvaise étanchéité sous vide et une concentration instable de gaz de procédé.
3- Solution optimisée: FS03 tubes de silice
- Matériau: FS03 silice fondue sous vide, SiO2 ≥ 99,995%, OH− < 10 ppm, impuretés très faibles.
- Surface: polissage par miroir parfaitement transparent pour les tubes, les brides et les écrous de quartz (pas de polissage par flamme).
- Structure: paroi épaissie, soudage sans contrainte pour une résistance élevée aux chocs thermiques.
4. Résultats des essais et de la production
- La différence de température à l'intérieur du four est réduite de ±12°C à ±3°C.
- Le rendement des plaquettes a augmenté de 6,8%; la durée de vie est passée de 45 jours à 180 jours.
- Les défaillances de fuite sous vide ont diminué de 95%; moins d'arrêts de production pour le remplacement des tubes.
5Conclusion
Les tubes de four poli transparents FS03 résolvent les risques d'uniformité de température et de contamination, réduisent les coûts d'entretien et stimulent une production de masse stable pour les procédés thermiques à semi-conducteurs.
