"technical glass products"
Perçage laser de plaque de verre de quartz transparent avec trou
Processing Laser Drilling Transparent Quartz Glass Plate With Hole Custom Clear High Temperature Resistance Glass Plates - JGS1 Fused Silica Quartz Glass Disc with exceptional thermal and optical properties. Product Overview Custom fused quartz glass plates featuring 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density. Available in customized shapes and specifications to meet precise application requirements. Custom Manufacturing Capabilities We produce shaped quartz plates
Plaque carrée en silice fondue haute température personnalisée, disque rond en quartz résistant à la chaleur
Custom High Temperature Resistant Fused Silica Quartz Glass Sheets & Discs High Temperature Resistant Sapphire Quartz Tablets - Custom clear high temperature resistance glass plates featuring JGS1 fused silica quartz glass disc with exceptional thermal and optical properties. Available in all sizes with full customization for optical observation lenses. Product Overview Custom fused quartz glass plates featuring 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density. Available in
Résistance à haute température 1150°C Plaque de verre au quartz avec 92% de transmission lumineuse et 2,2 g/cm3 de densité
Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density, available in customized shapes and specifications. Custom Manufacturing Capabilities We produce shaped quartz plates according to customer samples or technical
Torche en verre de quartz de haute pureté avec SIO2>99,99 % et bonne isolation électrique pour le chauffage en laboratoire à 1 100 ℃
La torche en verre de quartz de haute pureté (SiO₂>99,99 %) résiste à 1 100 °C, offre une transmission de la lumière >92 %, une excellente isolation électrique et une résistance aux acides/alcalis. Tailles personnalisées (OD 1-1 000 mm) disponibles pour les applications de semi-conducteurs et de laboratoire.
Tube en verre de quartz à bride personnalisée avec port KF pour équipement MPCVD de chauffage de laboratoire - Température de fonctionnement de 1100 ℃ et pureté SIO2 > 99,99 %
Tube en verre de quartz à bride personnalisée avec port KF pour équipement MPCVD de chauffage de laboratoire. Présente une pureté élevée (SiO₂>99,99 %), une excellente stabilité thermique (température de fonctionnement de 1 100 ℃), une transmission de la lumière > 92 % et une résistance aux acides/alcalis. Accepte le traitement personnalisé, notamment le pliage, la découpe et le soudage.
Tube en verre de quartz à haute résistance à la chaleur et à bonne isolation électrique avec une transmission lumineuse élevée pour les applications semi-conductrices
Good Electrical Quartz Insulation Glass Tube For Sources / Semiconductor High-performance quartz glass tubes designed for lighting sources, semiconductor manufacturing, and industrial applications requiring superior electrical insulation and thermal stability. Material Properties High Durability Excellent Heat Resistance Superior Corrosion Resistance Low Thermal Expansion Coefficient Key Features Corrosion Resistant: Exceptional chemical stability with no reaction to acids
Réacteur de verre au quartz de 50 ml à 5000 ml réacteur photochimique au quartz sous vide
Shengfan Quartz Glass Reactor Characteristic *Name Quartz Glass Reactor *SIO2 ≥99.99% *Tolerance ±0.02—±0.05mm *Size Customized *Melting point 1732℃ *Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ Size&design: Accept customize according to different diameter , thickness, length or sending your drawing. Our manufacturing capabilities allow complete product customization according to your unique needs. We welcome the opportunity to execute precision manufacturing based on
Réacteur de verre quartz résistant à haute température pour laboratoire
Shengfan Quartz Glass Reactor Characteristic *Name Quartz Glass Reactor *SIO2 ≥99.99% *Tolerance ±0.02—±0.05mm *Size Customized *Melting point 1732℃ *Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ Size&design: Accept customize according to different diameter , thickness, length or sending your drawing. Our manufacturing capabilities allow complete product customization according to your unique needs. We welcome the opportunity to execute precision manufacturing based on
Réacteur à tubes de verre au quartz UV
Shengfan Quartz Glass Reactor Characteristic *Name Quartz Glass Reactor *SIO2 ≥99.99% *Tolerance ±0.02—±0.05mm *Size Customized *Melting point 1732℃ *Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ Size&design: Accept customize according to different diameter , thickness, length or sending your drawing. Our manufacturing capabilities allow complete product customization according to your unique needs. We welcome the opportunity to execute precision manufacturing based on
Résistance à haute température 1150°C Plaque de verre au quartz avec 92% de transmission lumineuse et 2,2 g/cm3 de densité
Heat Resistance Thicker Clear Fused Silica Quartz Glass Sheet With High Transmittance Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density, available in customized shapes and specifications. Custom Manufacturing Capabilities We produce shaped quartz plates according to customer samples or technical drawings. Additional specifications including tolerance,
Réacteur de verre au quartz photocatalytique résistant aux acides de haute pureté à 99,99% pour expériences chimiques en laboratoire
Réacteurs en verre de quartz de silice fondue de haute pureté à 99,99 % personnalisés en usine avec une température de fonctionnement de 1 100 ℃, une résistance aux acides 30 fois meilleure que la céramique et une personnalisation complète disponible.
Réacteur en verre de quartz à double paroi résistant à la chaleur avec une taille personnalisée et du SiO2 de haute pureté pour l'industrie des semi-conducteurs
Réacteurs en verre de quartz transparent à double paroi et à double paroi en silicium fondu (SiO2≥99,99 %). Résiste à une température de fonctionnement de 1 100 ℃, un point de ramollissement de 1 730 ℃, une dureté morse 6,5 et une tolérance à l'acide 30x de la céramique. Tailles et designs personnalisés disponibles avec certifications du fabricant.
