Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Service de traitement | Frapper, couper |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Processing Service | Punching, Cutting |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |