| Le type | Plaque de quartz glacé |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Pas à pas |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Nom de produit | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Hardness | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Nom du produit | Tige de verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99,99 % |
| La densité | 2.2g/cm3 |
| Transmission de la lumière | 92% |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Matériel | SIO2>99,99 % |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Température de travail | 1150℃ |
| Point de fusion | 1750-1850℃ |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0,5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Coup de poing, coupe |
| Nom de produit | Usinage en verre de précision |
|---|---|
| Matériel | Sio2 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1200℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Nom du produit | Tige de verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99,99 % |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transmission de la lumière | 92% |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Nom de produit | tige en verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Hardness | Morse 6,5 |