Type | Plaque de quartz clair |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
forme | carré |
Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
matériel | SIO2>99,99 % |
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Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6.5 |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Température de fonctionnement | 1110℃ |
Nom de produit | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Matériel | silicium fondu |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | morse 6,5 |
Nom du produit | tige en verre de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Transimittance léger | 92% |
dureté | morse 6,5 |
Matériel | SIO2>99.99% |
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Densité | 2.2g/cm3 |
Transimittance léger | 92% |
dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom du produit | Barre de quartz pressée à chaud |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Transimittance léger | 92% |
dureté | morse 6,5 |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |