Matériel | SIO2>99.999% |
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Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Nom | Bride de quartz de silice fondue |
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Caractéristique | Dimension précise |
Application | Appareil de chauffage |
Densité | 2.2g/cm3 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Le type | Tubes de quartz transparentes |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Semi-circulaire |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Tubes de quartz transparentes |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | circulaire |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Tubes de quartz transparentes |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | circulaire |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Place/rond |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Plaque de quartz glacé |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Pas à pas |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Matériel | SIO2>99.99% |
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Surdose | 3-300mm |
Transmission de la lumière | > 92% |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Mose 6,5 |