| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Mose 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Mose 6,5 |
| Nom de produit | tige en verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Taper | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Le type | Tubes de quartz transparentes |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | circulaire |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Matériel | SIO2>99.999% |
|---|---|
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |