| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
| Type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Taper | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Nom du produit | Bride de tube de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Taper | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe |
| Taper | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Façonner | Carré |
| Service de traitement | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe |
| Nom de produit | Bride de tube de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |