| Nom de produit | Tube de verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom | PLAT DE QUARTZ DE XRD |
|---|---|
| Taper | Plat clair de quartz |
| Application | Produit chimique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Forme circulaire |
| Nom | Glace à hautes températures de quartz |
|---|---|
| Type | Plat clair de quartz |
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
|---|---|
| Type | Clear Quartz Plate |
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Mélanges |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Arc |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Nom de produit | Tube de quartz |
|---|---|
| Matériel | Sio2 |
| dureté | Morse 6,6 |
| Point de fonte | 1730℃ |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |