| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Nom | Tube de verre de quartz |
|---|---|
| Caractéristique | Dureté forte |
| forme | Rond |
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Nom | Tube en verre de quartz |
|---|---|
| Caractéristique | Forte dureté |
| Forme | Rond |
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92 % |
| Nom du produit | capillaire de silice fondue |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Identification | 0.1-2mm |
| Épaisseur de paroi | 0.1-5mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom | Tube de verre de quartz |
|---|---|
| Application du projet | Sources, semi-conducteur |
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Caractéristique | Bonne isolation électrique |
| Transmission de la lumière | > 92% |
| name | Tube de verre de quartz |
|---|---|
| Application du projet | Sources, semi-conducteur |
| Matériel | Si2> 99,99% |
| Caractéristique | Bonne isolation électrique |
| Transmission de la lumière | > 92% |