Type | Plaque de quartz clair |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
forme | carré |
Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
matériel | SIO2>99,99 % |
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Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6.5 |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Température de fonctionnement | 1110℃ |
Matériel | Tube de quartz fondu |
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Épaisseur | 0.5-100mm |
Dureté | morse 6,5 |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparatur fonctionnant | 1150℃ |
Matériel | SIO2>99.99% |
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Densité | 2.2g/cm3 |
Transimittance léger | 92% |
dureté | morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |