| Mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100 ℃ |
| Tolérance à l'acide | 30 fois que la céramique |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Mose 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.999% |
|---|---|
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Mot-clé | quartz de trois cous autour du flacon inférieur |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Nom | Tube en verre de quartz |
|---|---|
| Mot-clé | tube de quartz |
| Matériel | SIO2>99,99% |
| OD | 3-300mm |
| Transmission de la lumière | >92 % |
| Le type | Plaque de quartz glacé |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Pas à pas |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le type | Tubes de quartz transparentes |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | circulaire |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100°C |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |