Type | Plaque de quartz clair |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
forme | carré |
Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
Matériel | verre fusionné au quartz |
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Forme | tube en verre de quartz avec brides |
Couleur | Transparent |
Denité | 2.2 |
temp | >1450 |
Matériel | silicium fondu |
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La température fonctionnante | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | morse 6,5 |
Densité | 2.2g/cm3 |