Taper | Plaque de quartz clair |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Poinçonnage, découpe |
name | Réacteur en verre de quartz |
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Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100°C |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | morse 6,5 |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2 |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |