Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
SiO2 | 99,99% |
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Temparature fonctionnant | 1200℃ |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
couleur | transparente |
Nom du produit | tige en verre de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Transimittance léger | 92% |
dureté | morse 6,5 |