Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
le matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100°C |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Nom de quartz | glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Creuset en verre de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2,2 (g/cm3) |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Poinçon, coupant |