| matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Nom de produit | Flacon à réactifs de laboratoire |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.9% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Point de fonte | 1750℃ |
| Nom de produit | Flacon à réactifs de laboratoire |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.9% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique, 150 fois que l'acier inoxydable |
| Point de fonte | 1750℃ |
| Nom de produit | Flacon de réactif de laboratoire |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99,9% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance aux acides | 30 fois que la céramique, 150 fois que l'acier inoxydable |
| Matériel | silicium fondu |
|---|---|
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | morse 6,5 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Type | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| forme | carré |
| Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
| Couleur | Transparent |
| Nom de produit | Verrerie de laboratoire expérimentale de la Science des réacteurs Iso9001 de quartz |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | morse 6,5 |
| Taper | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |