Nom de produit | Verre de quartz rond |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de fonctionnement | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
matériel | silicium fondu |
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La température fonctionnante | 1250℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | Morse 6,5 |
application | Essai en laboratoire |
Nom | Disque en verre de quartz |
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Transmittance légère | >92% |
densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Morse 6,5 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |