Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
keyword | Science Lab Glassware |
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Name | process glass lab customized quartz instrument |
Material | fused silicon |
Working temperature | 1100℃ |
Acid tolerance | 30 times than ceramics |
Nom de quartz | glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Bride de tube de quartz |
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Matériel | SiO2 |
Densité | 2.2g/cm3 |
Hardness | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Nom de produit | Usinage en verre de précision |
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Matériel | SiO2 |
Hardness | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1200℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom de quartz | Glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | 99,99% |
Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |