| Matériel | silicium fondu |
|---|---|
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | morse 6,5 |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Type | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| forme | carré |
| Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
| Couleur | Transparent |
| Nom de produit | Verrerie de laboratoire expérimentale de la Science des réacteurs Iso9001 de quartz |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | morse 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Taper | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le type | plat de quartz |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |