| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| Nom de produit | Urne de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| Nom de produit | Flacon à réactifs de laboratoire |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.9% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique, 150 fois que l'acier inoxydable |
| Point de fonte | 1750℃ |
| Nom de produit | Flacon de réactif de laboratoire |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99,9% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance aux acides | 30 fois que la céramique, 150 fois que l'acier inoxydable |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| application | Lumière UV, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
