Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
Matériel | SIO2>99.99% |
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Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | Morse 6,5 |
Temparature fonctionnant | 1150℃ |
Point de fonte | 1750-1850℃ |