Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
Matériel | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Transmittance légère | >92% |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | Morse 6,5 |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |