| Type | Plat clair de quartz | 
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique | 
| Épaisseur | 0.5-100mm | 
| Forme | Place | 
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant | 
| Matériel | SIO2>99.99% | 
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 | 
| Dureté | Morse 6,5 | 
| Temparature fonctionnant | 1150℃ | 
| Point de fonte | 1750-1850℃ |