| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2 |
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1850℃ |
| Forme | Place/rond/toute forme |