| Matériel | SiO2 |
|---|---|
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1850℃ |
| forme | Place/rond/toute forme |
| Épaisseur | 1mm-50mm |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
| Couleur | Transparent |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
| Couleur | Clair / transparent |
|---|---|
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Type de matériau | JGS1/JGS2/JGS3 |
| Dureté | Morse 6,6 |
| Densité | 2,2 g / cm3 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| Matériel | SiO2 |
|---|---|
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
| Force de Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |