| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
| matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| mot-clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |