Type | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Place |
Traitement du service | Recourbement, soudant, poinçon, polissant |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2 |
Temparature fonctionnant | 1200℃ |
Point de fonte | 1850℃ |
Forme | Place/rond/toute forme |
Nom | Tube de verre de quartz |
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Caractéristique | Transmittance légère élevée |
Utilisation | Instrument optique |
Transmittance légère | >92% |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
mot-clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Nom de produit | Tube à essai de quartz |
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Matériel | Quartz fondu |
Densité | 2.2g/cm3 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Point de fonte | 1750℃ |
Matériel | 99,99% |
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Transmittance légère | 92% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Temparature fonctionnant | 1100℃ |
Dureté | morse 6,5 |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de fonctionnement | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Nom de produit | Creuset en verre de quartz |
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Matériel | SIO2>99.99% |
Densité | 2.2g/cm3 |
Dureté | morse 6,5 |
Point de fonte | 1750-1850℃ |
Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
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Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
Matériel | silicium fondu |
Température de fonctionnement | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |