name | Réacteur en verre de quartz |
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Matériel | silicium fondu |
Température de travail | 1100°C |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | morse 6,5 |
Taper | Plaque de quartz transparent |
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Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0,5-100 mm |
Forme | Rond |
Service de traitement | Coup de poing, coupe |