| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom du produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | Si2> 99,99% |
| Densité | 2.2 g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Densité | 2,2 g / cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Taper | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
| Nom du produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Densité | 2,2 g / cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Temparature fonctionnant | 1150℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |