Le type | Plaque de quartz transparent |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Le type | porteuse de plaquettes de quartz |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
Le type | Tubes de quartz transparentes |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100 mm |
Forme | circulaire |
Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
matériel | silicium fondu |
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La température fonctionnante | 1250℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
Dureté | Morse 6,5 |
application | Essai en laboratoire |
Nom de produit | Verre de quartz perforé |
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Matériel | SiO2 |
Dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom de produit | Verre de quartz perforé |
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Matériel | SiO2 |
Dureté | Morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |
Nom | Bride fondue de tectite |
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Taille | Adapté aux besoins du client |
Application | Instrument optique |
Densité | 2.2g/cm3 |
Caractéristique | Résistance à la corrosion |
Nom de produit | Glace de quartz |
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Matériel | SIO2>99.999% |
Densité | 2,2 (g/cm3) |
Transmittance légère | >92% |
Dureté | morse 6,5 |
Nom de produit | Tube de verre de quartz |
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Matériel | Sio2 |
Pureté | 99,99% |
Préparation de surface | Poli |
Point de fonte | 1730℃ |
Nom de produit | Tube de quartz |
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Matériel | Sio2 |
Pureté | 99,99% |
Type matériel | JGS1/JGS2/JGS3 |
Temparature fonctionnant | 1200℃ |