| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Arc |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Le type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Place/rond |
| Service de traitement | Leur valeur n'excède pas 50% du prix départ usine du produit |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0,5-100 mm |
| Forme | Mixte |
| Service de traitement | Boule, soudage, poinçonnage, polissage |
| Type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Matériel | Verre de quartz pur |
|---|---|
| Capacité | 100-850ml |
| Utilisation | maison/hôtels/restaurant |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Couleur | Transparent |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Transmittance légère | >92% |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Mose 6,5 |
| Type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Nom | verre de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |