| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Poinçonnage, découpe, polissage |
| Mot clé | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Nom | instrument de quartz adapté aux besoins du client par laboratoire en verre de processus |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de travail | 1100 ℃ |
| Tolérance à l'acide | 30 fois que la céramique |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Lumière UV, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
| Mot-clé | Verrerie de laboratoire scientifique |
|---|---|
| Nom | laboratoire de verre de traitement instrument à quartz personnalisé |
| Matériel | silicium fondu |
| Température de fonctionnement | 1100℃ |
| Tolérance aux acides | 30 fois plus que la céramique |
| Nom du produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | Si2> 99,99% |
| Densité | 2.2 g/cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Type | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Densité | 2,2 g / cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6.5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SiO2> 99,99% |
| Densité | 2,2 g / cm3 |
| Transimittance léger | 92% |
| Dureté | Morse 6.5 |