Taper | Tubes de quartz transparentes |
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Application du projet | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 1 à 100 mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Frapper, couper |
Nom | Plaque de verre de quartz à haute température |
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Taper | Plaque de quartz clair |
Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Nom | Plaque de verre de quartz à haute température |
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Taper | Plaque de quartz clair |
Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Taper | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Taper | Plat clair de quartz |
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Application | Semi-conducteur, optique |
épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Service de traitement | Recourbement, soudant, poinçonnant, coupure, polissant |
Nom | Plaque de verre de quartz à haute température |
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Taper | Plaque de quartz clair |
Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Façonner | Carré |
Nom de produit | Flacon à réactifs de laboratoire |
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Matériel | SIO2>99.9% |
Densité | 2.2g/cm3 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Tolérance acide | 30 fois que la céramique, 150 fois que l'acier inoxydable |
Nom | Plaque de verre de quartz à haute température |
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Taper | Plaque de quartz clair |
Application | Semi-conducteur, optique |
Épaisseur | 0.5-100mm |
Forme | Carré |
Nom de produit | Usinage en verre de précision |
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Matériel | SiO2 |
dureté | morse 6,5 |
La température fonctionnante | 1100℃ |
Qualité de surface | 20/40 ou 40/60 |
Nom du produit | Usinage en verre de précision |
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Matériel | SiO2 |
Dureté | morse 6,5 |
Température de fonctionnement | 1100℃ |
Qualité extérieure | 20/40 ou 40/60 |