| Matériel | SiO2 |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | Morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Transmittance UV | 80% |
| Matériel | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| La température fonctionnante | 1110℃ |
| Nom de produit | Urne de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Dureté | morse 6,5 |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Nom de produit | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Hardness | Morse 6,5 |
| Nom de produit | Verrerie de laboratoire de la Science |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Hardness | Morse 6,5 |
| Nom de produit | Verrerie de laboratoire expérimentale de la Science des réacteurs Iso9001 de quartz |
|---|---|
| Matériel | silicium fondu |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Tolérance acide | 30 fois que la céramique |
| Dureté | morse 6,5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
|---|---|
| Type | Clear Quartz Plate |
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |
| Taper | Plaque de quartz transparent |
|---|---|
| Application du projet | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100 mm |
| Forme | Carré |
| Service de traitement | Frapper, couper |