| Nom de quartz | glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | 99,99% |
| Transmittance légère | 92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.99% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Nom de Prodcut | Glace de quartz |
|---|---|
| Transmittance légère | >92% |
| Densité | 2.2g/cm3 |
| Temparature fonctionnant | 1100℃ |
| Dureté | Morse 6,5 |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| SiO2 | 99,99% |
| Temparature fonctionnant | 1200℃ |
| Point de fonte | 1750-1850℃ |
| Utilisation | Laboratoire, biologie, médicale |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Type | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| forme | carré |
| Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
| Type | Plaque de quartz clair |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Pliage, soudage, poinçonnage, découpe, polissage |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| La température fonctionnante | 1100℃ |
| Nom de produit | Glace de quartz |
|---|---|
| Matériel | SIO2>99.999% |
| Densité | 2,2 (g/cm3) |
| Transmittance légère | >92% |
| Dureté | morse 6,5 |
| Type | Plat clair de quartz |
|---|---|
| Application | Semi-conducteur, optique |
| Épaisseur | 0.5-100mm |
| Forme | Place |
| Traitement du service | Recourbement, soudure, poinçonnant, coupe |
